真空鍍膜技術(shù)由于基本都是處于真空環(huán)境下進行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù)。產(chǎn)品鍍膜過程為真空環(huán)境，真空度極高。鍍膜機內(nèi)氣壓極低，產(chǎn)品中的添加劑、油脂、水分均會溢出，所以產(chǎn)品注塑時不可打脫模劑，不可添加增塑劑，不可直接加色粉成型。納米級厚度、膜厚均勻。真空鍍膜膜層厚度只數(shù)十至數(shù)百納米(一般≤0.2um)，膜層各部位厚度極為均勻。例：鍍鋁層厚度達0.9nm時就可導電，達到30nm時性能就和固態(tài)鋁材相同，銀鍍層小于5nm時不能導電。各塑膠產(chǎn)品本身具有約0.5um的粗糙度，塑膠表面均在鍍膜前噴涂UV進行封閉流平，以達到理想的鏡面效果。因鍍膜層太薄，故對底涂UV材料外觀要求近乎苛刻，這就要求涂裝室潔凈度極高。同時產(chǎn)品外觀面積越大，不良率就可能就越高。真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。合肥太陽能電池真空鍍膜

真空鍍膜機的安全操作注意事項：1、設(shè)備中途停氣時，應(yīng)立即關(guān)閉擴散泵、粗抽泵、羅茨泵，讓維持泵繼續(xù)運行；2、設(shè)備中途停電時，應(yīng)立即關(guān)總電源，后關(guān)擴散泵、粗抽泵、維持泵；3、擴散泵加熱時，避免身體接觸擴散泵加熱爐、以免燙傷；4、工件旋轉(zhuǎn)時，禁止一切作業(yè)；應(yīng)待工件完全停止轉(zhuǎn)動后，才可進行上下滾筒作業(yè)；5、電鍍作業(yè)完成后，需要打開門時，應(yīng)有作業(yè)人員扶住拉手，緩慢的將門打開，并將插銷插入固定孔中；6、真空電鍍機操作人員必須嚴格按設(shè)備操作指導書和安全操作規(guī)程進行作業(yè)，注意設(shè)備本身及設(shè)備運行中的安全，特別要重視安全裝置的檢查與使用。合肥太陽能電池真空鍍膜真空鍍膜在厚度、硬度、耐磨耐腐蝕等性能方面可滿足客戶的實際需求。

真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。真空蒸發(fā)鍍膜較為常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便。

真空鍍膜設(shè)備有哪些基本技術(shù)要求?1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T6070的規(guī)定。2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現(xiàn)電場對測量造成干擾時，應(yīng)在測量口處安裝電場屏蔽裝置。3、如果設(shè)備使用的主泵為擴散泵時，應(yīng)在泵的進氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱。4、設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。5、離子鍍沉積源的設(shè)計應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。在控制技術(shù)上，更多的應(yīng)用先進的計算機技術(shù)和微電子技術(shù)，使得真空鍍膜更具高效性和智能自動化。

真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展與真空鍍膜油的開發(fā)成功是密不可分的。從某種意義上，我們甚至可以說，沒有真空鍍膜油就沒有真空鍍膜。這是由真空鍍膜油的作用所決定的。在真空鍍膜的過程中，鍍膜油起著牢固粘結(jié)鍍件與金屬膜的作用(即作為鍍件的底涂層)；真空鍍膜后，須在鍍件表面涂上一層鍍膜油，這時該油又起著保護金屬膜、染色等作用(即作為鍍件的面涂層)。大部份材料在進行鍍膜之前，都必須在鍍件表面涂上一層薄薄的鍍膜油，徹底干燥之后再行鍍膜，否則，鍍上的金屬膜極易脫落，輕輕用手即可擦掉。真空鍍膜過程中，鍍膜質(zhì)量的好壞很大程度上取決于底涂層的質(zhì)量。真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果。合肥太陽能電池真空鍍膜

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學方法。合肥太陽能電池真空鍍膜

真空鍍膜相較傳統(tǒng)水電鍍優(yōu)勢哪些?傳統(tǒng)水電鍍由于污水處理成本高、能耗高，水資源的浪費多，環(huán)境污染大等原因，已經(jīng)被國家及各級地方部門所限制發(fā)展。而真空鍍膜設(shè)備能夠替代傳統(tǒng)水電鍍的表面處理方法，使傳統(tǒng)水電鍍進行技術(shù)升級改造。下面來了解看看它相較傳統(tǒng)水電鍍有哪些優(yōu)勢吧。1.無環(huán)境污染，因為所有的鍍層材料都在真空環(huán)境下，通過等離子體沉積在工件表面，沒有溶液污染，所以對環(huán)境沒有危害。2.節(jié)約金屬材料，因為真空涂層附著力、硬度、致密度以及耐腐蝕性能等非常優(yōu)良，沉積的鍍層厚度可以遠遠小于常規(guī)濕法電鍍鍍層，達到節(jié)約材料的目的。3.沉積材料廣，可沉積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法沉積的低電位金屬，通以反應(yīng)氣體和合金靶材更是可以沉積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，而且可以根據(jù)需要設(shè)計涂層體系。真空鍍膜設(shè)備既符合國家環(huán)保政策，又可以滿足產(chǎn)品出口的要求，同時提高出口產(chǎn)品的附加值。隨著社會不點的進步，真空電鍍將會成為主流是必然的發(fā)展趨勢。合肥太陽能電池真空鍍膜

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